隨著真空度的增加和氣體分子密度的降低,氣體的物理性質(zhì)發(fā)生了變化。根據(jù)氣體性能的變化,在不同的真空狀態(tài)下采用不同的工藝方法來達(dá)到不同的生產(chǎn)目的。從集成電路制造到加速器運(yùn)行、受控核聚變、航天器衛(wèi)星等,再到許多民用裝飾品的生產(chǎn),都與真空技術(shù)有關(guān)。真空吸盤不同真空度下的工藝技術(shù)
首先,我們將討論真空吸盤技術(shù)在低真空中的應(yīng)用。
低真空壓力范圍105~102 Pa。在低真空狀態(tài)下,與大氣壓相比,只有分子數(shù)量由多變少,但氣體分子的空間性質(zhì)沒有變化。氣體分子之間經(jīng)常發(fā)生碰撞。
低真空狀態(tài)真空泵真空技術(shù)主要利用真空與大氣壓差產(chǎn)生的力和均勻壓差力原理實(shí)現(xiàn)各種真空應(yīng)用。
低真空狀態(tài)下真空泵的真空過程主要包括五個(gè)方面:
1。真空吸引和輸送固體、液體、膠體和粒子。
2。真空吸盤提升和真空醫(yī)療設(shè)備。
3。真空成型,復(fù)制浮雕。
4。真空過渡
5。真空浸漬
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